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          型號(hào):

          XTD鍍層測(cè)厚儀

          描述:XTD鍍層測(cè)厚儀,專業(yè)表面處理檢測(cè)解決方案: XTD系列測(cè)厚儀,專用于檢測(cè)各種異形件,特別是五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。
          測(cè)量面積:最小0.04mm²鍍層分析:23層鍍層24種元素儀器特點(diǎn):可變焦對(duì)焦儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析.

          • 廠商性質(zhì)

            經(jīng)銷商
          • 更新時(shí)間

            2025-05-18
          • 訪問(wèn)量

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          詳細(xì)介紹
          品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
          價(jià)格區(qū)間面議儀器種類臺(tái)式/落地式
          應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷

          儀器簡(jiǎn)介:

          XTD鍍層測(cè)厚儀是一款專用于檢測(cè)各種異形件,特別適用于五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。

          該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測(cè),在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢(shì)。

          被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。


          產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

          • *EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量

          • 上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量

          • 自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦

          • 變焦裝置算法:可對(duì)0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)

          • 小面積測(cè)量:最小測(cè)量面積0.002mm2

          • 可編程自動(dòng)位移:選配自動(dòng)平臺(tái),X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無(wú)人值守自動(dòng)測(cè)量


          XTD鍍層測(cè)厚儀應(yīng)用領(lǐng)域:

          廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、衛(wèi)浴裝飾、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。

          XTD.jpg


          多元迭代EFP核心算法(ZL號(hào):2017SR567637)

          專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開(kāi)發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。

          單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

          多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

          合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

          合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

          重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。

          如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。


          技術(shù)參數(shù):

          1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)

          2. 涂鍍層分析范圍:氯(Cl)/鋰(Li)- 鈾(U)

          3. 厚度檢出限:0.005μm

          4. 成分檢出限:1ppm

          5. 最小測(cè)量直徑0.05mm(最小測(cè)量面積0.002mm2)

          6. 對(duì)焦距離:0-90mm

          7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm

          8. 儀器尺寸:760mm*550mm*635mm

          9. 儀器重量:100KG


          選擇一六儀器的四大理由:

          1.一機(jī)多用,無(wú)損檢測(cè)

          2.最小測(cè)量面積0.002mm2

          3.可檢測(cè)凹槽0-90mm的異形件

          4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)



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          電子郵箱:hy207@163.com

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